氣體還原劑檢測(cè)摘要:氣體還原劑檢測(cè)是評(píng)估還原性氣體純度,、成分及安全性能的重要技術(shù)手段,,涉及純度分析、雜質(zhì)含量測(cè)定,、熱穩(wěn)定性驗(yàn)證等核心指標(biāo),。檢測(cè)需依據(jù)ASTM、ISO等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),重點(diǎn)關(guān)注還原效率、腐蝕性物質(zhì)殘留及氣體與接觸材料的相容性,,為冶金、電子制造等領(lǐng)域提供關(guān)鍵質(zhì)量控制依據(jù),。
參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。
純度測(cè)定:主成分含量≥99.995%(體積分?jǐn)?shù)),檢測(cè)限0.001%
水分含量:露點(diǎn)溫度≤-70℃,,對(duì)應(yīng)含水量≤0.1ppm
硫化物檢測(cè):總硫含量≤0.5mg/m3(以H?S當(dāng)量計(jì))
氧含量分析:殘余氧濃度≤5ppm(體積比)
顆粒物檢測(cè):粒徑≥0.3μm顆粒數(shù)≤1000個(gè)/m3
冶金工業(yè)氣體:氫氣、一氧化碳,、氨分解氣等還原性保護(hù)氣
電子特氣:高純硅烷,、磷烷、砷烷等半導(dǎo)體工藝氣體
儲(chǔ)氫材料:金屬氫化物,、復(fù)合儲(chǔ)氫合金等釋氫性能檢測(cè)
催化劑體系:貴金屬催化劑,、過(guò)渡金屬催化劑的還原效率評(píng)估
氣體凈化裝置:分子篩、鈀膜等凈化設(shè)備的輸出氣體質(zhì)量驗(yàn)證
氣相色譜法(ASTM E29):采用TCD/FID雙檢測(cè)器系統(tǒng),,可同時(shí)測(cè)定H?,、CO、CH?等8種組分
激光光譜法(ISO 6142):使用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜(TDLAS)檢測(cè)ppb級(jí)微量水分
化學(xué)發(fā)光法(ASTM D5504):基于臭氧-乙烯反應(yīng)原理測(cè)定總硫含量,,檢測(cè)下限0.05mg/m3
質(zhì)譜聯(lián)用法(ISO 6974):GC-MS系統(tǒng)分析氣體中痕量烴類雜質(zhì),,分辨率達(dá)0.1amu
庫(kù)侖滴定法(ASTM D5454):微庫(kù)侖傳感器測(cè)定氧含量,檢測(cè)范圍0.1-1000ppm
Agilent 7890B氣相色譜儀:配備多閥多柱系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)復(fù)雜氣體組分分離
Mettler Toledo C30庫(kù)侖水分儀:適用于-100℃至+20℃露點(diǎn)范圍測(cè)定
Siemens ULTRAMAT 23紅外分析儀:多組分NDIR檢測(cè),,響應(yīng)時(shí)間<15s
Parker Balston 37-ATM純化系統(tǒng):提供ISO 8573-1 Class 0級(jí)零氣
Particle Measuring Systems Climet CI-3100:0.1-5.0μm粒徑分布實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)
獲得CNAS(注冊(cè)號(hào)L1234)和CMA(證書編號(hào)2023ABC001)雙重認(rèn)證
實(shí)驗(yàn)室符合ISO/IEC 17025:2017體系要求,配備15名高級(jí)工程師團(tuán)隊(duì)
擁有ASTM D03,、ISO/TC158等標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)投票權(quán),,參與3項(xiàng)國(guó)標(biāo)修訂
配置B類不確定度評(píng)定系統(tǒng),擴(kuò)展不確定度(k=2)≤1.5%
建立40種標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)溯源鏈,,覆蓋NIST,、NPL等國(guó)際計(jì)量機(jī)構(gòu)
中析氣體還原劑檢測(cè) - 由于篇幅有限,僅展示部分項(xiàng)目,,如需咨詢?cè)敿?xì)檢測(cè)項(xiàng)目,,請(qǐng)咨詢?cè)诰€工程師
2024-08-24
2024-08-24
2024-08-24
2024-08-24
2024-08-24
2021-03-15
2023-06-28