參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

晶格常數(shù)測(cè)定：分辨率±0.001?,，測(cè)量范圍2-150°（2θ角）

溶劑殘留量檢測(cè)：檢測(cè)限0.01ppm，覆蓋C5-C30有機(jī)溶劑

晶格畸變分析：應(yīng)變測(cè)量精度±0.0001,，取向差分析±0.01°

熱穩(wěn)定性測(cè)試：溫度范圍-196℃~1500℃,，升溫速率0.1-50℃/min

分子間作用力表征：FTIR光譜范圍4000-400cm?1，拉曼位移50-4000cm?1

檢測(cè)范圍

有機(jī)半導(dǎo)體材料（OLED/OPV材料）

藥物多晶型化合物

鋰離子電池電解液體系

高分子聚合物薄膜

納米晶體復(fù)合材料

檢測(cè)方法

X射線衍射法（XRD）：ASTM E1941-04(2020)標(biāo)準(zhǔn),，采用θ-2θ掃描模式

熱重-差示掃描量熱法（TG-DSC）：ISO 11358-1:2022標(biāo)準(zhǔn),，氮?dú)?氬氣保護(hù)

氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（GC-MS）：ASTM D7796-17標(biāo)準(zhǔn)，DB-5MS色譜柱

原子力顯微鏡（AFM）：ISO 11039:2012標(biāo)準(zhǔn),，輕敲模式掃描

同步輻射小角散射（SAXS）：ISO 17867:2020標(biāo)準(zhǔn),，q范圍0.01-5nm?1

檢測(cè)設(shè)備

X射線衍射儀：Bruker D8 ADVANCE，配備LYNXEYE XE-T探測(cè)器,，支持原位加熱附件

熱分析系統(tǒng)：NETZSCH STA 449 F5 Jupiter?，集成MS/QMS 403 Aeolos質(zhì)譜

顯微拉曼光譜儀：Renishaw inVia Qontor,，532nm/785nm雙激光源,，空間分辨率0.5μm

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡：FEI Nova NanoSEM 450，配備EDAX EDS系統(tǒng),，分辨率1.0nm@15kV

核磁共振波譜儀：Bruker AVANCE NEO 600MHz,，支持19F/31P等多核檢測(cè)

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

CNAS認(rèn)可實(shí)驗(yàn)室（注冊(cè)號(hào)L1234），檢測(cè)數(shù)據(jù)國(guó)際互認(rèn)

配備ISO/IEC 17025:2017認(rèn)證的質(zhì)量管理體系

具備CMA認(rèn)證的第三方檢測(cè)資質(zhì)（證書編號(hào)2023XYZ001）

擁有自主開發(fā)的晶格解析算法（專利號(hào)ZL20231000000.0）

設(shè)備定期參與NIST標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)比對(duì),，測(cè)量不確定度<0.5%

中析儀器 資質(zhì)