參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.純度測(cè)定：采用非揮發(fā)性殘留物法測(cè)定主成分含量≥99.9%

2.氯含量分析：離子色譜法測(cè)定Cl?占比（34.5%-35.5%）

3.水分檢測(cè)：卡爾費(fèi)休法控制H?O≤50ppm

4.金屬雜質(zhì)檢測(cè)：ICP-MS測(cè)定Fe≤5ppm,、Cu≤2ppm,、Ni≤3ppm

5.晶體結(jié)構(gòu)表征：XRD分析晶型匹配度（JCPDS00-042-1088）

檢測(cè)范圍

1.半導(dǎo)體級(jí)GaCl?粉末（粒徑D50≤10μm）

2.MOCVD工藝用前驅(qū)體溶液（濃度0.1-1.0mol/L）

3.光學(xué)鍍膜用高純靶材（密度≥3.8g/cm）

4.有機(jī)合成催化劑顆粒（比表面積≥20m/g）

5.光伏材料摻雜母料（氧含量≤100ppm）

檢測(cè)方法

1.ASTME1479-16電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定金屬雜質(zhì)

2.ISO17034:2016標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)定值方法驗(yàn)證純度指標(biāo)

3.GB/T6283-2008卡爾費(fèi)休庫(kù)侖法測(cè)定微量水分

4.GB/T17433-2014X射線衍射法定性分析晶體結(jié)構(gòu)

5.ISO11885:2007電感耦合等離子體質(zhì)譜法痕量元素分析

檢測(cè)設(shè)備

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)