高硅錫渣檢測摘要:高硅錫渣是冶金及電子工業(yè)中常見的含硅錫基廢料,,其成分分析對資源回收和環(huán)保管控至關重要,。本文圍繞硅含量測定、雜質(zhì)元素分析等核心項目展開,,依據(jù)ASTM,、ISO及國標方法規(guī)范檢測流程,涵蓋XRF,、ICP-OES等精密設備的應用場景與參數(shù)要求,。
參考周期:常規(guī)試驗7-15工作日,加急試驗5個工作日,。
注意:因業(yè)務調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個人除外)。
1. 硅含量測定:采用差減法計算SiO?含量(范圍15%-45%)
2. 錫主量分析:測定Sn含量(基準值≥50%±0.5%)
3. 雜質(zhì)元素檢測:Pb(≤0.1%),、Cu(≤0.05%),、As(≤50ppm)
4. 氧含量測試:惰性氣體熔融法測定總氧量(0.5%-3.0%)
5. 物理特性檢驗:密度(6.5-7.5g/cm3)、熔點區(qū)間(220-250℃)
1. 電子焊接工序產(chǎn)生的含錫廢渣
2. 冶金精煉過程分離的高硅浮渣
3. 金屬回收料中的混合錫基殘渣
4. 合金鑄造行業(yè)廢棄的硅錫復合渣
5. 半導體晶圓加工產(chǎn)生的含錫研磨廢料
ASTM E1621-22:X射線熒光光譜法測定金屬基體元素
ISO 9507:2020 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法多元素分析
GB/T 223.5-2008 鋼鐵及合金化學分析方法還原型硅鉬酸鹽光度法測硅
GB/T 5121.27-2019 銅及銅合金化學分析方法第27部分:錫量的測定
ISO 15351:2016 惰性氣體熔融法測定金屬材料中氧含量
Thermo Scientific ARL QUANT'X X射線熒光光譜儀:用于主量元素快速定量分析
PerkinElmer Optima 8300 ICP-OES:痕量雜質(zhì)元素ppm級檢測
LECO ONH836氧氮氫分析儀:惰性氣體熔融法測定氧含量
Mettler Toledo XP205電子天平:稱量精度0.01mg的精密稱樣
NETZSCH STA 449F3同步熱分析儀:測定熔點與熱穩(wěn)定性參數(shù)
Malvern Mastersizer 3000激光粒度儀:廢渣顆粒分布特征分析
Sartorius MA37水分測定儀:105℃恒重法測游離水分含量
Bruker D8 ADVANCE X射線衍射儀:物相組成與晶體結(jié)構鑒定
報告:可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版),。
檢測周期:7~15工作日,,可加急。
資質(zhì):旗下實驗室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告,。
標準測試:嚴格按國標/行標/企標/國際標準檢測,。
非標測試:支持定制化試驗方案。
售后:報告終身可查,,工程師1v1服務,。
中析高硅錫渣檢測 - 由于篇幅有限,僅展示部分項目,,如需咨詢詳細檢測項目,,請咨詢在線工程師
2024-08-24
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2023-06-28