參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.硬度測(cè)試：維氏硬度（HV）1800-2200,，努氏硬度（HK）1900-2100

2.折射率測(cè)定：No=1.760-1.768，Ne=1.768-1.776（589nm波長(zhǎng)）

3.密度檢驗(yàn)：3.98-4.01g/cm（X射線比重法）

4.熱導(dǎo)率分析：25-35W/(mK)（激光閃射法）

5.光譜特性：紫外可見(jiàn)吸收峰200-400nm（UV-Vis分光光度計(jì)）

6.晶體缺陷：位錯(cuò)密度≤10/cm（X射線形貌術(shù)）

7.表面粗糙度：Ra≤0.8nm（白光干涉儀）

檢測(cè)范圍

1.光學(xué)級(jí)藍(lán)寶石窗口片（厚度0.3-30mm）

2.LED用PSS圖形化襯底（直徑2-8英寸）

3.腕表鏡面材料（莫氏硬度9級(jí)驗(yàn)證）

4.半導(dǎo)體設(shè)備承載環(huán)（純度99.99%以上）

5.激光器用Q開(kāi)關(guān)晶體（消光比≥30dB）

6.航空航天整流罩（耐溫2000℃驗(yàn)證）

檢測(cè)方法

1.ASTMC1326-2019《單晶材料維氏硬度測(cè)試》

2.ISO21475:2018《人造剛玉折射率測(cè)定規(guī)范》

3.GB/T16534-2021《工程晶體密度測(cè)試通用方法》

4.ISO22007-4:2017《瞬態(tài)平面熱源法導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)定》

5.GB/T37250-2018《人工晶體缺陷X射線雙晶衍射分析法》

6.ASTME430-2020《表面光澤度測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)方法》

7.ISO10110-8:2020《光學(xué)元件表面粗糙度測(cè)試》

檢測(cè)設(shè)備

1.HV-50維氏硬度計(jì)（載荷范圍10gf-50kgf）

2.UV-2600i紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)（波長(zhǎng)范圍185-3300nm）

3.DH-300全自動(dòng)密度儀（分辨率0.0001g/cm）

4.LFA467激光導(dǎo)熱儀（溫度范圍-120℃-2000℃）

5.D8DISCOVERX射線衍射儀（角度精度0.0001）

6.ZYGONewView9000白光干涉儀（垂直分辨率0.1nm）

7.AxioImager.A2m偏光顯微鏡（放大倍數(shù)50-1000X）

8.EDX-8000能量色散光譜儀（元素分析范圍B-U）

9.TriPleX630傅里葉紅外光譜儀（波數(shù)范圍7500-350cm?）

10.JSM-7900F場(chǎng)發(fā)射電鏡（分辨率0.8nm@15kV）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查,，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)