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德拜謝樂反射檢測

2025-04-08 關(guān)鍵詞:德拜謝樂反射測試標(biāo)準(zhǔn),德拜謝樂反射測試機(jī)構(gòu),德拜謝樂反射測試范圍 相關(guān):
德拜謝樂反射檢測

德拜謝樂反射檢測摘要:德拜謝爾反射檢測是基于X射線衍射技術(shù)的非破壞性分析方法,,主要用于材料晶體結(jié)構(gòu)表征與缺陷評(píng)估,。核心檢測要點(diǎn)包括晶面間距測定,、物相定性/定量分析,、殘余應(yīng)力計(jì)算及織構(gòu)取向分析等參數(shù)。該技術(shù)需嚴(yán)格遵循ASTM、ISO及GB/T標(biāo)準(zhǔn)體系,,適用于金屬合金,、陶瓷材料、半導(dǎo)體器件等多元領(lǐng)域的高精度檢測需求,。

參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,,加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測項(xiàng)目

1.晶面間距測定:采用Cu-Kα輻射(λ=1.5406),測量精度0.0001nm

2.物相定性分析:匹配ICDD-PDF4+數(shù)據(jù)庫(2023版),,檢出限≤0.5wt%

3.殘余應(yīng)力計(jì)算:基于sinψ法,,測量范圍2000MPa,分辨率10MPa

4.晶粒尺寸測定:Scherrer公式計(jì)算,,有效粒徑范圍1-200nm

5.織構(gòu)取向分析:極圖測量步長0.5,,角度覆蓋范圍θ=10-80

檢測范圍

1.金屬材料:鋁合金(AA6061-T6)、鈦合金(Ti-6Al-4V)的相組成分析

2.陶瓷材料:氧化鋯(YSZ),、碳化硅(SiC)的晶體結(jié)構(gòu)表征

3.半導(dǎo)體器件:硅片(<100>/<111>取向),、GaN外延層的缺陷評(píng)估

4.高分子材料:聚乙烯(HDPE)結(jié)晶度測定(30-80%范圍)

5.地質(zhì)樣品:石英/長石礦物相的定量分析(RIR法)

檢測方法

ASTME975-20:X射線衍射法測定殘余應(yīng)力的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ISO20203:2005:鋁生產(chǎn)用碳質(zhì)材料的結(jié)晶度測定方法

GB/T23413-2009:納米材料晶粒尺寸的X射線衍射線寬法

ASTMD5380-93(2021):聚合物材料結(jié)晶度測定的試驗(yàn)方法

GB/T8362-2018:鋼中殘余奧氏體的定量測定-X射線衍射法

檢測設(shè)備

1.RigakuSmartLabX射線衍射儀:配備9kW旋轉(zhuǎn)陽極靶,支持θ-θ測角儀結(jié)構(gòu)

2.BrukerD8ADVANCEDavinci設(shè)計(jì):配置LynxEye陣列探測器,,角度重現(xiàn)性0.0001

3.PANalyticalEmpyrean系統(tǒng):具備PIXcel3D探測器,,支持實(shí)時(shí)原位高溫附件(1600℃)

4.ShimadzuXRD-7000:配備石墨單色器,Cu靶工作電壓40kV/30mA

5.ThermoScientificARLEQUINOX100:采用微區(qū)聚焦技術(shù),,最小光斑尺寸50μm

6.MalvernPanalyticalX'Pert3MRD:配置高分辨率光學(xué)模塊(HRXRD)

7.ProtoLXRD殘余應(yīng)力儀:便攜式設(shè)計(jì),,集成ψ角旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)

8.BrukerD2PHASER桌面衍射儀:配備LynxEyeXE-T探測器

9.RigakuMiniFlex600:配置SC-70超導(dǎo)探測器,支持薄膜GIAB測量模式

10.AntonPaarXRDynamic500:集成濕度控制腔室(10-95%RH)

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱:中析研究所】

報(bào)告:可出具第三方檢測報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測周期:7~15工作日,,可加急。

資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測試:嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測,。

非標(biāo)測試:支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后:報(bào)告終身可查,,工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)

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