二次離子質(zhì)譜法檢測摘要:二次離子質(zhì)譜法(SIMS)是一種高靈敏度的表面分析技術(shù),,通過聚焦離子束轟擊樣品表面并收集濺射出的二次離子進(jìn)行質(zhì)譜分析,。該方法廣泛應(yīng)用于材料科學(xué),、半導(dǎo)體工業(yè)及地質(zhì)研究領(lǐng)域,可實(shí)現(xiàn)元素成分,、同位素分布及深度剖析的精準(zhǔn)檢測。核心要點(diǎn)包括超高真空環(huán)境控制,、離子源選擇優(yōu)化及質(zhì)量分辨率校準(zhǔn),。
參考周期:常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,加急試驗(yàn)5個工作日,。
注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個人除外)。
1. 元素成分分析:檢測限達(dá)ppb級,,質(zhì)量分辨率>10,000(m/Δm)
2. 深度剖析:縱向分辨率<1nm,,濺射速率0.1-10nm/s
3. 同位素比值測定:精度±0.1‰(δ值)
4. 表面污染檢測:檢出限<1×1012 atoms/cm2
5. 三維成像分析:空間分辨率≤50nm(XY方向)
1. 半導(dǎo)體材料:硅基芯片,、GaN外延層摻雜濃度分布
2. 金屬材料:高溫合金晶界偏析、腐蝕層成分分析
3. 生物樣品:細(xì)胞膜元素標(biāo)記,、藥物分子組織滲透研究
4. 地質(zhì)樣品:鋯石U-Pb定年,、隕石同位素異常檢測
5. 陶瓷材料:晶界擴(kuò)散系數(shù)測定、多層結(jié)構(gòu)界面分析
ASTM E1504-11:動態(tài)SIMS定量分析標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ISO 18114:2021:次級離子質(zhì)譜法校準(zhǔn)規(guī)范
GB/T 32281-2015:半導(dǎo)體材料二次離子質(zhì)譜分析方法
GB/T 40129-2021:表面化學(xué)分析-次級離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)報(bào)告規(guī)范
ISO 23812:2021:硅中硼的深度剖析參考方法
1. CAMECA IMS 7f-Auto:磁式扇形質(zhì)譜儀,,配備雙等離子體源(O2+/Cs+),,質(zhì)量分辨率20,000
2. ION-TOF TOF.SIMS 5:飛行時(shí)間質(zhì)譜系統(tǒng),配備30kV Bin+團(tuán)簇源,,空間分辨率40nm
3. NanoSIMS 50L:多接收器型儀器,,支持7個并行探測器,同位素比精度0.2‰
4. PHI nanoTOF II:脈沖電子中和系統(tǒng),,適用于絕緣樣品分析
5. Hiden Analytical SIMS Workstation:配備H-源的低能離子槍(0.5-5keV)
6. Cameca SC Ultra:配備RF等離子體源(O2-/O-),,深度分辨率0.3nm/decade
7. Thermo Scientific SIMS 4550:四極桿-飛行時(shí)間串聯(lián)質(zhì)譜系統(tǒng)
8. Ulvac-PHI ADEPT-1010:高傳輸效率能量過濾器(能量帶寬±1eV)
9. AMETEK SIMS 1280-HR:高分辨率多接收系統(tǒng)(質(zhì)量分散度300mm)
10. OMNILAB SIMS-3000:集成FIB-SEM聯(lián)用模塊的三維重構(gòu)系統(tǒng)
報(bào)告:可出具第三方檢測報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。
檢測周期:7~15工作日,,可加急,。
資質(zhì):旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。
標(biāo)準(zhǔn)測試:嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測,。
非標(biāo)測試:支持定制化試驗(yàn)方案,。
售后:報(bào)告終身可查,工程師1v1服務(wù),。
中析二次離子質(zhì)譜法檢測 - 由于篇幅有限,,僅展示部分項(xiàng)目,如需咨詢詳細(xì)檢測項(xiàng)目,,請咨詢在線工程師
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