參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.純度測(cè)定：采用X射線熒光光譜法（XRF）或電感耦合等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES）,，檢測(cè)范圍≥99.5%，誤差0.2%。

2.雜質(zhì)元素分析：包括鈉（Na）,、鉀（K）,、鈣（Ca）等金屬雜質(zhì)，限值≤50ppm,；氯（Cl?）,、硫酸根（SO??）等非金屬雜質(zhì)限值≤100ppm。

3.晶體結(jié)構(gòu)表征：通過X射線衍射（XRD）測(cè)定晶胞參數(shù)a=4.230.02,，空間群Fm-3m,。

4.熱穩(wěn)定性測(cè)試：熱重分析（TGA）評(píng)估分解溫度≥800℃，升溫速率10℃/min,。

5.溶解性測(cè)試：測(cè)定在去離子水中的溶解度（25℃條件下≥120g/100mL）,，pH值范圍10.5-11.8。

檢測(cè)范圍

1.光學(xué)玻璃原料：用于高折射率透鏡制造的Cs?O粉末及預(yù)制體,。

2.電子陶瓷元件：包含壓電陶瓷基片,、介電層材料的成品及半成品。

3.核醫(yī)學(xué)屏蔽材料：含Cs?O的輻射防護(hù)玻璃及復(fù)合材料,。

4.催化劑載體：用于有機(jī)合成反應(yīng)的Cs?O摻雜型催化劑,。

5.科研級(jí)樣品：實(shí)驗(yàn)室合成的超純Cs?O單晶或納米粉末。

檢測(cè)方法

1.GB/T25934.3-2010《高純化學(xué)試劑分析方法第3部分》：規(guī)定ICP-MS法測(cè)定痕量金屬雜質(zhì),。

2.ASTME1479-16《標(biāo)準(zhǔn)指南描述化學(xué)分析用樣品制備》：適用于XRF前處理流程,。

3.ISO20565-3:2008《含鉻耐火制品化學(xué)分析》：擴(kuò)展應(yīng)用于Cs?O中陰離子檢測(cè)。

4.GB/T17413.2-2010《鋰銣銫化學(xué)分析方法》：涵蓋滴定法測(cè)定主成分含量,。

5.JISK0068:1992《化學(xué)制品熔點(diǎn)測(cè)定方法》：指導(dǎo)差示掃描量熱法（DSC）測(cè)試,。

檢測(cè)設(shè)備

1.ThermoScientificARLQUANT'XXRF光譜儀：能量分辨率<130eV，元素檢測(cè)范圍Na-U,。

2.PerkinElmerOptima8300ICP-OES：軸向觀測(cè)等離子體系統(tǒng),，檢出限低至ppb級(jí),。

3.RigakuMiniFlex600X射線衍射儀：Cu靶Kα輻射源（λ=1.5406）,，掃描速度0.02/s。

4.MettlerToledoTGA/DSC3+同步熱分析儀：溫度范圍25-1600℃,，稱重精度0.1μg,。

5.Metrohm905Titrando自動(dòng)電位滴定儀：支持動(dòng)態(tài)滴定模式，精度0.1μL,。

6.Agilent7900ICP-MS：配備碰撞反應(yīng)池技術(shù),，檢出限<0.1ppt。

7.MalvernMastersizer3000激光粒度儀：測(cè)量范圍0.01-3500μm,，重復(fù)性誤差<1%,。

8.HORIBALabRAMHREvolution拉曼光譜儀：空間分辨率<1μm，光譜范圍200-2100cm?,。

9.BrukerD8ADVANCEXRD系統(tǒng)：配備LYNXEYEXE-T探測(cè)器,，掃描速度達(dá)5000dps,。

10.ShimadzuUV-2600i分光光度計(jì)：波長范圍220-1400nm，帶寬可調(diào)至0.1nm,。

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查,，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)