參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1.放電電壓穩(wěn)定性：測(cè)量范圍0.5-5kV,，波動(dòng)率≤1%

2.等離子體電流密度：典型值0.5-20mA/cm

3.濺射速率校準(zhǔn)：精度0.1nm/s（參照NIST標(biāo)準(zhǔn)樣品）

4.元素深度分辨率：優(yōu)于5nm（Fe/Cr多層膜標(biāo)樣）

5.背景等效濃度：BEC≤10ppm（基體Fe中C元素）

檢測(cè)范圍

1.金屬材料：航空航天合金鍍層（Ni/Cr/Al）成分梯度分析

2.半導(dǎo)體材料：GaN/Al?O?異質(zhì)結(jié)界面元素?cái)U(kuò)散研究

3.光伏組件：CIGS薄膜太陽能電池層厚測(cè)量（Cu/In/Ga/Se）

4.硬質(zhì)涂層：TiN/TiAlN刀具涂層結(jié)合強(qiáng)度評(píng)估

5.考古文物：青銅器表面腐蝕產(chǎn)物分層結(jié)構(gòu)解析

檢測(cè)方法

1.ASTME1259:2021《輝光放電光譜法測(cè)定金屬薄膜成分》

2.ISO14707:2020《輝光放電發(fā)射光譜法表面分析通則》

3.GB/T22368-2022《鋼鐵材料表面處理層輝光放電光譜分析方法》

4.DINEN10315:2006《高頻輝光放電光譜法測(cè)定鍍鋅層厚度》

5.JISH8507:2019《金屬覆蓋層輝光放電剝離速率測(cè)定方法》

檢測(cè)設(shè)備

1.GDS-850A輝光放電光譜儀（日本島津）：配備RF源（13.56MHz）,，可測(cè)元素范圍Li-U

2.GD-Profiler2（美國HORIBA）：深度分辨率達(dá)2nm，最大濺射深度500μm

3.SpectrumaGDA750HP（德國）：高功率脈沖模式（1000W）,，支持磁性材料分析

4.LECOGDS500A（美國）：集成CCD探測(cè)器,，波長范圍165-670nm

5.SPECTRUMAGDA650（奧地利）：雙等離子體源設(shè)計(jì)，支持同時(shí)發(fā)射/吸收模式

6.RigakuGD-AnalyzerPro（日本）：配備3D映射功能,，空間分辨率50μm

7.ThermoScientificGDS-X3（美國）：集成四級(jí)桿質(zhì)譜接口（可選配）

8.BrukerGDS-QMS500（德國）：聯(lián)用質(zhì)譜系統(tǒng)檢出限達(dá)ppb級(jí)

9.AMETEKGDS-880（美國）：全自動(dòng)樣品臺(tái)支持Φ10-150mm試樣

10.PHI5000VersaProbeIII（日本）：兼容XPS聯(lián)用技術(shù)實(shí)現(xiàn)深度剖析

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告,。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查,，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)