參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測(cè)項(xiàng)目

純度檢測(cè)：硼含量≥99.9%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）

雜質(zhì)元素分析：Fe,、Al、Si等痕量元素≤100ppm

粒度分布測(cè)試：D50范圍0.5-5μm,，D90≤10μm

氧含量測(cè)定：總氧量≤1000ppm（惰性氣體熔融法）

晶型結(jié)構(gòu)分析：α相與β相比例（XRD半定量）

檢測(cè)范圍

核工業(yè)用硼粉（中子吸收材料）

電子級(jí)硼粉（半導(dǎo)體摻雜材料）

金屬陶瓷復(fù)合材料（燒結(jié)添加劑）

高溫合金添加劑（耐腐蝕涂層）

醫(yī)藥級(jí)硼粉（靶向治療制劑）

檢測(cè)方法

ICP-MS法（ASTM E1941-04）：痕量金屬元素定量

惰性氣體熔融法（ISO 18114:2015）：氧氮?dú)渎?lián)測(cè)

激光衍射法（GB/T 19077-2016）：粒度分布測(cè)定

X射線衍射法（GB/T 4325-2013）：物相結(jié)構(gòu)鑒定

庫(kù)侖滴定法（GB/T 223.82-2018）：總硼含量測(cè)定

檢測(cè)設(shè)備

Thermo Scientific iCAP RQ ICP-MS：0.1ppb級(jí)元素分析

Malvern Mastersizer 3000：0.01-3500μm粒度測(cè)試

Bruker D8 ADVANCE XRD：2θ角0-160°全譜掃描

LECO ONH836：氧含量檢測(cè)精度±1ppm

JEOL JSM-7900F場(chǎng)發(fā)射SEM：1nm分辨率形貌觀測(cè)

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)