參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個人除外)。

檢測項(xiàng)目

純度分析：銠含量≥99.95%,，雜質(zhì)元素總量≤500ppm

粒度分布：D50值0.5-50μm范圍測定,，跨度系數(shù)≤1.2

比表面積：BET法測定1-100m2/g區(qū)間值

晶體結(jié)構(gòu)：XRD分析面心立方晶型完整性

表面形貌：SEM觀測顆粒球形度≥85%

氯離子殘留：離子色譜法≤100ppm

檢測范圍

工業(yè)催化劑用高純銠粉（Rh≥99.99%）

電子漿料用超細(xì)銠粉（D90≤5μm）

高溫合金添加劑銠粉（Fe/Ni/Cu雜質(zhì)≤200ppm）

電鍍用納米銠粉（粒徑10-100nm）

醫(yī)療器件涂層用球形銠粉（球形度≥90%）

檢測方法

純度測定：ASTM E2594-20（ICP-OES法）、GB/T 17418.3-2010

粒度分析：ISO 13320-2020（激光衍射法）,、GB/T 19077-2016

比表面積測試：ISO 9277-2010（氮吸附BET法）

元素分布表征：ASTM E1508-12（EDS面掃描）

晶體結(jié)構(gòu)鑒定：JCPDS 05-0685標(biāo)準(zhǔn)卡片比對

檢測設(shè)備

電感耦合等離子體光譜儀：PerkinElmer Optima 8300（檢出限0.01ppm）

激光粒度分析儀：Malvern Mastersizer 3000（0.01-3500μm量程）

比表面孔隙度分析儀：Micromeritics ASAP 2460（0.0001m2/g精度）

場發(fā)射掃描電鏡：Hitachi SU8220（1nm分辨率）

X射線衍射儀：Bruker D8 Advance（角度精度±0.0001°）

離子色譜儀：Thermo Scientific Dionex ICS-6000（ppb級檢出能力）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報告：可出具第三方檢測報告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測周期：7~15工作日，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報告,。

標(biāo)準(zhǔn)測試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測。

非標(biāo)測試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報告終身可查,，工程師1v1服務(wù)。

中析儀器 資質(zhì)