參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日,，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外),。

檢測項(xiàng)目

1. 摻雜元素濃度梯度分析：測量范圍0.1ppm-10wt%，深度分辨率≤5nm

2. 氧化物層厚度測定：精度±0.5μm（1-100μm范圍）

3. 擴(kuò)散系數(shù)計(jì)算：溫度范圍300-1300℃,，誤差±5%

4. 界面結(jié)合強(qiáng)度測試：載荷范圍0.1-50N,，位移分辨率0.01μm

5. 晶格畸變率測定：XRD半高寬法（FWHM≤0.1°）

檢測范圍

1. 半導(dǎo)體材料：硅基/砷化鎵摻雜氧化物薄膜

2. 高溫涂層材料：YSZ熱障涂層/鋁化物擴(kuò)散障層

3. 固體氧化物燃料電池：LSM/YSZ復(fù)合陰極材料

4. 光學(xué)鍍膜材料：TiO?/SiO?多層干涉膜系

5. 核用包殼材料：鋯合金氧化層/MAX相涂層

檢測方法

1. ASTM F121-80(2020)：二次離子質(zhì)譜法測定摻雜濃度分布

2. ISO 14606:2015：輝光放電光譜深度剖析技術(shù)規(guī)范

3. GB/T 17473.5-2008：薄膜厚度X射線反射法測量規(guī)程

4. ISO 21222:2020：原子探針層析技術(shù)操作規(guī)范

5. GB/T 38715-2020：高溫氧化試驗(yàn)中擴(kuò)散系數(shù)計(jì)算方法

檢測設(shè)備

1. Thermo Scientific ARL QUANT'X EDXRF：能量色散X射線熒光光譜儀（元素定量分析）

2. CAMECA IMS 7f-Auto：磁式二次離子質(zhì)譜儀（深度分辨率1nm）

3. Bruker D8 ADVANCE XRD：高分辨X射線衍射儀（晶格參數(shù)測定）

4. ZEISS Crossbeam 550 FIB-SEM：聚焦離子束掃描電鏡（三維重構(gòu)）

5. HORIBA GD-Profiler 2：射頻輝光放電光譜儀（深度剖析速率10μm/min）

6. Cameva LEAP 5000 XR：原子探針斷層掃描儀（三維原子尺度分析）

7. Netzsch STA 449 F3 Jupiter：同步熱分析儀（高溫?cái)U(kuò)散動(dòng)力學(xué)研究）

8. Park NX-Hivac AFM：高真空原子力顯微鏡（表面形貌表征）

9. Oxford Instruments Symmetry EBSD：電子背散射衍射系統(tǒng)（晶界擴(kuò)散分析）

10. Rigaku Ultima IV XRD：薄膜專用衍射儀（掠入射模式GID測量）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版)。

檢測周期：7~15工作日,，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測試：嚴(yán)格按國標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國際標(biāo)準(zhǔn)檢測,。

非標(biāo)測試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)