參考周期：常規(guī)試驗(yàn)7-15工作日，加急試驗(yàn)5個(gè)工作日,。

注意：因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試,望諒解(高校,、研究所等性質(zhì)的個(gè)人除外)。

檢測(cè)項(xiàng)目

1. 粒徑分布：測(cè)定D10/D50/D90值及跨度系數(shù)（Span Index）,，測(cè)量范圍0.01-3500μm

2. 比表面積：采用BET多點(diǎn)法測(cè)定,，精度±1%

3. 顆粒形貌：圓形度（Circularity）≥0.7判定為球形顆粒

4. 密度分布：振實(shí)密度與松裝密度比差≤15%

5. 團(tuán)聚指數(shù)：通過(guò)超聲分散前后D50變化率評(píng)估

6. Zeta電位：測(cè)量范圍±200mV，分辨率0.1mV

檢測(cè)范圍

1. 金屬粉末：鈦合金/鋁合金/銅基粉末（粒徑1-150μm）

2. 陶瓷原料：碳化硅/氧化鋁/氮化硼粉體（0.5-100μm）

3. 藥品顆粒：API原料藥/藥用輔料（納米級(jí)至500μm）

4. 化工催化劑：分子篩/貴金屬載體（介孔2-50nm）

5. 食品添加劑：二氧化硅/碳酸鈣微粒（10-200目）

檢測(cè)方法

1. 激光衍射法：ISO 13320:2020《粒度分析-激光衍射法》

2. 動(dòng)態(tài)光散射法：GB/T 19627-2022《粒度分析-光子相關(guān)光譜法》

3. 篩分分析法：ASTM B214-22《金屬粉末篩分標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程》

4. 圖像分析法：ISO 13322-2:2021《靜態(tài)圖像分析法》

5. 氣體吸附法：GB/T 19587-2017《氣體吸附BET法測(cè)定固態(tài)物質(zhì)比表面積》

6. 沉降法：GB/T 19077-2016《粒度分析-重力沉降法》

檢測(cè)設(shè)備

1. 馬爾文 Mastersizer 3000：激光衍射儀（0.01-3500μm）

2. 丹東百特 BT-9300S：動(dòng)態(tài)光散射納米粒度儀（1nm-10μm）

3. 麥克儀器 TriStar II Plus：全自動(dòng)比表面及孔隙度分析儀

4. FEI Quanta 650 FEG：場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（分辨率1nm）

5. 布魯克 Dimension Icon：原子力顯微鏡（Z向分辨率0.1nm）

6. Retsch AS200 control：電磁振動(dòng)篩分機(jī)（20μm-20mm）

7. Quantachrome Autotap：振實(shí)密度測(cè)試儀（振動(dòng)頻率250次/min）

8. Micromeritics Sedigraph III Plus：X射線沉降粒度儀（0.1-300μm）

9. Horiba SZ-100Z：納米電位分析儀（Zeta電位測(cè)量）

10. Malvern Morphologi 4：全自動(dòng)顯微圖像粒度儀（256級(jí)灰度識(shí)別）

北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所【簡(jiǎn)稱：中析研究所】

報(bào)告：可出具第三方檢測(cè)報(bào)告(電子版/紙質(zhì)版),。

檢測(cè)周期：7~15工作日,，可加急,。

資質(zhì)：旗下實(shí)驗(yàn)室可出具CMA/CNAS資質(zhì)報(bào)告。

標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試：嚴(yán)格按國(guó)標(biāo)/行標(biāo)/企標(biāo)/國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè),。

非標(biāo)測(cè)試：支持定制化試驗(yàn)方案,。

售后：報(bào)告終身可查，工程師1v1服務(wù),。

中析儀器 資質(zhì)